光学平台的平面度，通常是指单位面积内，被测实际表面相对其理想平面的变动量。通常国外光学平台的平面度指标为：±0.1mm/600mm×600mm，中弘的光学平台，通过精密磨削工艺，将平面度指标提高到0.02 ～ 0.05mm/600mm×600mm。
但严格意义上来说，光学平台平面度，对于隔振性能，没有任何影响，甚至若为了追求高平面度，往往会牺牲掉光学平台的隔振性能，原因如下：
● 我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动恢复时间的说明已经知道，台面加厚质量增加，平台的振动恢复时间往往成倍（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的；
● 光学平台的磨削是有极限的，这个加工的极限一般是在±0.01mm/600mm×600mm左右，换算成平方米大约为：±0.03mm/m2，但这个平面度，同大理石平台的平面度相差甚远。大理石平台根据平面度指标一般分为：000级（平面度≤3μm/m2）、00级（平面度≤5μm/m2）、0级（平面度≤10μm/m2）。换句话说，平面度好的光学平台，同低等级的大理石平台相比，平面度还差数倍甚至一个数量级，所以若您需要高平面度的台面，强烈建议您选购大理石平台；
● 光学平台的平面度在使用时，实际意义不大。我们以平整的台面（实际上是不可能的）来看，若长×宽×厚为：2000×1000×200mm，通常调整水平时，水平仪的小刻度为±30′，若假设实际过程中，水平方向调整精度若为5′，长度方向取2000mm，那么，台面长度方向两端的高度差=2000×tan（5′）2.9mm，也就是说，就算平整的台面，调整水平后，台面长度方向两端的高度差很有可能达到3mm，所以实际使用情况中，平面度的指标意义不大；
● 对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，若确有必要考虑高度差，则完全可以通过中弘精密调整的位移台来实现。综上所述，光学平台的平面度，同光学平台的隔振性能不相关，只能做为光学平台的一个辅助指标，供参考。
